LCD研磨抛光膜

LCD研磨抛光膜该系列产品采用先进的精密涂布技术,将微米/纳米级磨料(金刚石、氧化铝、碳化硅、二氧化硅、氧化铈等)与新型高分子材料均匀分散后,涂覆于高强度柔性薄膜基体表面而成。

产品特征:


1、使用的磨料经过专门的处理,完全去除超尺寸颗粒,不会引起划伤。

2、采用专有分散及涂布工艺确保磨粒能够均匀地涂布于带基上。

3、全过程质量控制,确保产品的一致性。

4、具体良好的柔韧性和高的强度,可最大限度地提高研磨质量。

5、具有较高的磨削力,抛光效率高。

6、耐用性良好,使用寿命长,可大大降低生产成本。

7、适用于干态、湿态等多种抛光模式。

目数

600

800

1000

1200

1500

2000

2500

3000

粒径/um

30

20

16

15

12

9

6

5

目数

4000

6000

7000

8000

10000

15000

20000

30000

粒径/um

3

2

1.5

1

0.5

0.3

0.2

0.1

磨料种类

金刚石(D)、碳化硅(SC)、氧化铝(AO)、氧化硅(SO)、氧化铈(CO)

规格

圆形研磨片:Φ70mm、Φ110mm、Φ127mm、Φ203mm

方形研磨片:114mm*114mm、152mm*152mm、228mm*228mm

注:除以上规格外,可根据客户的需求定做各种规格产品。

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